德中（天津）精密装备有限公司

一般干膜的的光谱吸收范围是310-440nm，阻焊膜的光谱吸收范围是350-450nm，常用的负性感光胶SU-8的光谱吸收范围是350-400nm，正性感光胶AZ的光谱吸收范围是320-440nm。德中EL400 UV-LED自身的发射光谱范围为315nm-400nm，适合干膜、阻焊、常见感光胶的曝光，应用范围宽广。

德中EL400 UV-LED紫外线光源模组，仅发射315nm-400nm的光谱，纯度高，杂波少，真正的“冷”光源，曝光过程对底片的热影响低，线路无变形。

曝光灯能量的稳定性是一个非常关键的指标。

各种弧光灯的衰减周期为800-1000小时，而德中EL400 UV-LED紫外线光源模组的设计衰减周期约30000小时，能量输出稳定，不用频繁测试光能量，不仅保证了良好的解析度，还简化了操作，增加了制程的稳定性；寿命长，不用频繁更换光源，性价比高。

德中EL400的UV-LED光源的平行度好于普通弧光灯，光源与覆铜板之间的距离很小，独特的滤光设计结构过滤掉了绝大部分散射光，线性扫描式曝光，扫描次数可调，照射到覆铜板上的光近乎平行，适合细、密线路的制作，在干膜上的解析度达到25µm。

EL400的UV-LED是半导体发光器件，绿色环保光源，可瞬间点亮，并且光功率瞬间能够释放出来，无需长时间预热。曝光完成光源就关闭；在曝光准备的时候光源是不工作的，这样既能节省能源又能延长灯组的使用寿命。无高温易爆的危险， LED发光达到某种亮度时所消耗的能量只有15瓦左右，而传统的灯达到同样亮度要消耗1500瓦的能量，也可节省80%的能源，省电节能，减低成本。无需配备水冷，设备运行简单方便。

德中EL400采用的是接触式曝光方式，菲林底片的药膜面与感光材料接触进行曝光。EL400采用上下玻璃板压紧菲林底片和覆铜板，最大限度地使底片与干膜紧密贴合在一起，防止散射光增加曝光宽度。

紫外双面曝光机EX300采用进口紫外灯管作为光源，使用双面麦拉膜作为曝光支架，通过抽真空，麦拉膜使菲林底片和覆铜板紧紧贴合在一起，有效避免了底片和覆铜板之间的间隙造成的过度曝光，在干膜上能够曝光细至75μm的线路图形，满足绝大多数线路板生产中曝光需求。

EX300同样适合干膜、阻焊和部分感光胶的曝光。

EX300具有专门设计的遮光结构，比普通紫外曝光机更加安全。

德中还提供使用UV-LED紫外光源的旋转曝光机，适用于空心圆锥体，圆柱体的侧表面曝光，制作三围电路图形。