• 阴极、阳极间离子交换速度更快,整槽内离子浓度更加均匀,完全消除浓差极化,提高电镀均匀性
• 有效改善滚镀中滚筒内溶液与槽溶液的浓差极化,滚镀质量得到有效改善
• 适合通孔、盲孔填孔电镀,有效改善通孔、盲孔内电镀溶液交换问题
• 基板孔内溶液交换快, 适合小孔, 微孔,腔体(如HTCC管壳), 盲孔等板厚/孔径比大的基板电镀, 表面和孔内镀层厚度更趋一致
• 电流密度更高,电镀效率可提高15-30%
德中TP350/450/650系列电镀设备,采用独特的射流技术,适合陶瓷片、HTCC陶瓷管壳、铁氧体等电子基板挂镀,更加适合电子零件滚镀、晶圆凸点电镀。
• 阴极、阳极间离子交换速度更快,整槽内离子浓度更加均匀,完全消除浓差极化,提高电镀均匀性
• 有效改善滚镀中滚筒内溶液与槽溶液的浓差极化,滚镀质量得到有效改善
• 适合通孔、盲孔填孔电镀,有效改善通孔、盲孔内电镀溶液交换问题
• 基板孔内溶液交换快, 适合小孔, 微孔,腔体(如HTCC管壳), 盲孔等板厚/孔径比大的基板电镀, 表面和孔内镀层厚度更趋一致
• 电流密度更高,电镀效率可提高15-30%